本报讯（首席记者 周珂 通讯员 孔晓睿）近日，爱思唯尔（Elsevier）重磅发布2023“中国高被引学者”（Highly Cited Chinese Researchers）榜单，浙大杭州国际科创中心10人入选。

　　2023“中国高被引学者”榜单以信息分析公司爱思唯尔的引文与索引数据库Scopus作为统计来源，采用了上海软科教育信息咨询有限公司开发的方法。榜单系统性展示了中国科研领域的人才分布现状，精准呈现各科研机构、高校优势学科构成及学术影响力，以及在关键技术研究和各重点领域的顶尖人才。本次上榜共计5801人，来自496所高校、企业及科研机构，覆盖了10个教育部学科领域中的84门一级学科。

　　上榜该榜单，意味着在中国作为第一作者和通讯作者发表论文的被引总次数在本学科所有研究者中处于顶尖水平，不仅表明该学者的研究成果为本领域发展作出了突出贡献，也意味着该学者在所研究领域具有世界影响力。

　　以科创中心首席科学家杨德仁为例，其入选学科领域为材料科学与工程。杨德仁长期从事半导体硅材料的研究，包括超大规模集成电路用硅材料，太阳能光伏硅材料、硅基光电子材料和纳米硅半导体材料，在硅材料的基础研究上取得重大成果，生产实际中也产生重大经济效益。

　　比如，前不久，镓仁半导体联合浙大杭州国际科创中心先进半导体研究院、硅及先进半导体材料全国重点实验室，采用自主开创的铸造法成功制备了高质量6英寸非故意掺杂及导电型氧化镓（β-Ga2O3）单晶，并加工获得了6英寸氧化镓衬底片。铸造法便是由杨德仁团队自主研发，用于生长氧化镓单晶的新型熔体法技术。